ЛАЗЕРНО-ІНФОРМАЦІЙНО СИСТЕМА ДЛЯ МОНІТОРИНГУ ВИПАРУВАННЯ КЛЕЮ ПІД ЧАС ВИСИХАННЯ (Computer systems and information technologies, 2025)
У контексті розвитку технологій у поліграфії, обробці матеріалів та хімічному виробництві зростає потреба у високоточному моніторингу летких викидів, що утворюються під час процесів сушіння. Традиційні методи контролю часто не забезпечують необхідної швидкості, чутливості або вибірковості для оперативного аналізу продуктів випаровування клею, особливо в динамічних умовах, таких як сушарки книжкових блоків.У роботі обґрунтовано створення лазерних резонансних фотометричних систем для оцінки концентрації випаруваних хімічних компонентів з клейових сумішей. Запропоновано методологічну основу для реалізації двоканальної лазерної фотометрії, що забезпечує безконтактну, експресну та просторово локалізовану оцінку вмісту летких речовин. Представлено структуру та принцип дії лабораторного концентратоміра, який включає напівпровідникові лазери, фотоприймачі, блоки обробки сигналів та інтелектуальні керуючі агенти.Особливу увагу приділено фізичній та квантово-хімічній взаємодії лазерного променя з водним середовищем, а також динаміці розчинності клейових компонентів під тепловим впливом. Запропоновано двоступеневий підхід до селективної фотоіонізації для підсилення сигналу через резонансні ефекти, що дозволяє здійснювати більш точну кількісну оцінку викидів.Запропоновані методи можуть бути застосовані не лише у поліграфічному виробництві, але й у ширшому контексті екологічного моніторингу, зокрема для лазерної діагностики забруднень у повітряному та рідинному середовищі. Ці технології сприяють розвитку сенсорних систем нового покоління, здатних підтримувати екологічну безпеку та оптимізацію технологічних процесів.
Keywords: фотометрія; лазер; резонансні явища; квантова взаємодія; концентрація; сушіння; клей